电子级 三苯基锍,1-[(3-羟基三环[3.3.1.13,7]癸-1-基)甲基]1,1,2,2-四氟-1,4-丁二磺酸盐 (1:1)

名称：电子级 三苯基锍,1-[(3-羟基三环[3.3.1.13,7]癸-1-基)甲基]1,1,2,2-四氟-1,4-丁二磺酸盐 (1:1)

别名：    Sulfonium, triphenyl-, 1-[(3-hydroxytricyclo[3.3.1.13,7]dec-1-yl)methyl] 1,1,2,2-tetrafluoro-1,4-butanedisulfonate (1:1)

CAS号：1428237-74-4
分子式：C₃₃H₃₅F₄O₇S₃
分子量：716.83 g/mol
外观：白色至类白色固体粉末

产品指标：

·           纯度 ≥ 99.0%

·           单金属离子含量 ≤ 100 ppb

·           可根据客户需求定制更高规格

【产品简介】
该产品是一种新型三芳基锍盐类光致产酸剂（Photoacid Generator, PAG），具有特殊的多取代三环癸基结构，能够在深紫外光（DUV）或EUV光照下高效产生活性酸。其四氟-1,4-丁二磺酸根提供了优良的化学惰性和热稳定性，可显著降低光刻胶中阴离子迁移和副反应的风险。

【产品概述】
1.具备高量子效率和高酸生成率，适用于先进光刻制程；
2.特殊三环癸基取代提高了分子溶解性及与树脂的相容性，有助于改善光刻胶膜均匀性；
3.采用电子级净化工艺，极低的金属杂质含量满足半导体制造的高可靠性要求；
4.稳定性优异，降低暗反应及背景酸释放，提升显影对比度和图形保真度。

【物理化学性质】
1.分解温度：> 220 ℃，热稳定性优异；
2.光敏特性：在193 nm、EUV波段具有高效吸收；
3.溶解性：易溶于PGMEA、丙酮、乙腈等常见光刻胶溶剂；
4.储存条件：避光、低温、干燥、惰性气氛下密封保存，防止分解；
5.形态：白色粉末，易分散，便于配方应用。

【应用领域】
1.半导体光刻胶：适用于ArF（193 nm）化学放大型光刻胶和EUV光刻胶，提升分辨率和线宽控制能力；
2.显示面板制造：用于光敏绝缘层、彩色滤光片光刻胶，提高图形分辨率；
3.微电子加工：用于MEMS、微流控芯片、光子器件微细图形制备；
4.特种功能材料：可作为光敏酸催化剂用于功能薄膜、微结构聚合物制备。

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